Ce texte est une simplification générée par une IA.
Il n'a pas de valeur légale et peut contenir des erreurs.
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Masques EUV pour circuits intégrés
Résumé Des masques ultra‑courts en rayonnement ultraviolet extrême sont utilisés pour fabriquer les puces informatiques tout en évitant certaines restrictions d’exportation.
Mots-clés : lithographie rayonnement ultraviolet extrême circuits intégrés
3B901.l. Masques et réticules pour la lithographie par ‘rayonnement ultraviolet extrême' (‘EUV'), conçus pour les circuits intégrés, non visés au paragraphe 3B001.g de l'annexe I du « règlement européen de contrôle des exportations des biens à double usage », et comportant un masque de « substrat brut » spécifié par l'alinéa 3B001.j de l'annexe I du « règlement européen de contrôle des exportations des biens à double usage ».
Notes techniques :
- Le ‘rayonnement ultraviolet extrême' (‘EUV') correspond à un spectre électromagnétique dont les longueurs d'onde sont supérieures à 5 nm et inférieures à 124 nm.
- Aux fins de l'alinéa 3B901.l, les masques sur lesquels une pellicule est déposée sont considérés comme masques et réticules.
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