Code de la propriété intellectuelle

Article R622-3-1

Article R622-3-1

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Délai de statut de dépôt de topographie de produit semi-conducteur

Résumé Le délai pour examiner une demande de protection de topographie de produit semi-conducteur est mis en pause si le dépôt est irrégulier.

Il est statué sur le dépôt de topographie de produit semi-conducteur dans un délai de six mois à compter du dépôt. Ce délai est interrompu par la notification prévue à l'article R. 622-3, jusqu'à la régularisation du dépôt.


Historique des versions

Version 1

Il est statué sur le dépôt de topographie de produit semi-conducteur dans un délai de six mois à compter du dépôt. Ce délai est interrompu par la notification prévue à l'article R. 622-3, jusqu'à la régularisation du dépôt.