JORF n°0077 du 30 mars 2025

3B904. Equipements de tests cryogéniques de plaquettes, présentant toutes les caractéristiques suivantes :

a. Conçus pour tester des dispositifs à des températures inférieures ou égales à 4.5 K (-268.65° C) ; et
b. Conçus pour accueillir des diamètres de plaquettes supérieurs ou égaux à 100 mm.

3C907. Matériaux épitaxiés constitués d'un « substrat » comportant au moins une couche épitaxiée de l'un des matériaux suivants :

a. Silicium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de silicium autres que le silicium-28 ou le silicium-30 ; ou
b. Germanium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de germanium autres que le germanium-70, germanium-72, germanium-74, ou germanium-76.

3C908. Fluorures, hydrures ou chlorures, de silicium ou de germanium, contenant l'un des éléments suivants :

a. Silicium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de silicium autres que le silicium-28 ou le silicium-30 ; ou
b. Germanium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de germanium autres que le germanium-70, germanium-72, germanium-74, ou germanium-76.

3C909. Silicium, oxydes de silicium, germanium ou oxydes de germanium, contenant l'un des éléments suivants :

a. Silicium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de silicium autres que le silicium-28 ou le silicium-30 ; ou
b. Germanium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de germanium autres que le germanium-70, germanium-72, germanium-74, ou germanium-76.

Note.-L'alinéa 3C909 inclut les « substrats », grumeaux, lingots, boules et préformes.


Historique des versions

Version 1

3B904. Equipements de tests cryogéniques de plaquettes, présentant toutes les caractéristiques suivantes :

a. Conçus pour tester des dispositifs à des températures inférieures ou égales à 4.5 K (-268.65° C) ; et

b. Conçus pour accueillir des diamètres de plaquettes supérieurs ou égaux à 100 mm.

3C907. Matériaux épitaxiés constitués d'un « substrat » comportant au moins une couche épitaxiée de l'un des matériaux suivants :

a. Silicium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de silicium autres que le silicium-28 ou le silicium-30 ; ou

b. Germanium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de germanium autres que le germanium-70, germanium-72, germanium-74, ou germanium-76.

3C908. Fluorures, hydrures ou chlorures, de silicium ou de germanium, contenant l'un des éléments suivants :

a. Silicium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de silicium autres que le silicium-28 ou le silicium-30 ; ou

b. Germanium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de germanium autres que le germanium-70, germanium-72, germanium-74, ou germanium-76.

3C909. Silicium, oxydes de silicium, germanium ou oxydes de germanium, contenant l'un des éléments suivants :

a. Silicium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de silicium autres que le silicium-28 ou le silicium-30 ; ou

b. Germanium ayant une impureté isotopique inférieure à 0.08 % d'isotopes de germanium autres que le germanium-70, germanium-72, germanium-74, ou germanium-76.

Note.-L'alinéa 3C909 inclut les « substrats », grumeaux, lingots, boules et préformes.